• 数据数据库
  • 博客
  • 关于我们
  • 加入我们
  • 产品信息

台积电 Q4 2025 法说会前瞻

fiisual

2026/1/13

受多项利多消息带动,台积电日前股价突破 1,700 元、再创历史新高,同步推升加权指数突破 30,000 点。此次法说会被市场视为 AI 与半导体产业 2026 年的重要风向球,投资人高度关注管理层对先进制程、AI 需求展望、资本支出与获利结构的最新看法,相关指引亦将成为后续产业评价与市场预期调整的关键依据。

市场预期

4Q25E 1Q26E 2026E
营收 (NT$ bn) 1,054.6 1,158.5 4,844.0
毛利率 60.0% 60.0% 59.8%
营业利益率 50.0% 50.3% 50.1%
税后净利率 43.9% 45.0% 45.0%
EPS (元) 17.86 20.11 83.98

关注重点

重点一:2nm 良率爬坡与 A16 制程推进进度

台积电 2nm 制程已于 4Q25 顺利投产,目前投片量表现优于先前预期,甚至达到 3nm 同期的约 1.5 倍。随着产能持续拉升,市场焦点将转向良率爬坡进度;此外,2026 下半年次世代 N2P 制程,以及首度导入背面供电技术的 A16 制程能否如期推进,将直接影响公司未来两至三年的产品组合与高毛利结构稳定度。

重点二:能否回应市场 500 亿美元资本支出期待

台积电 2025 年资本支出达 400 亿美元,年增约 30%,显示公司持续加大对先进制程与先进封装的投入。由于资本支出被视为未来数年需求强度与制造产能布局的领先指标,市场已进一步预期 2026 年资本支出规模有望上看 500 亿美元,相关投资节奏与规模能否回应市场期待为法说会关注焦点。

重点三:海外扩厂进度及对毛利率可能带来的影响

台积电先前宣布扩大对美投资至 1,650 亿美元,随着美国厂逐步投入生产,公司已预期海外布局在初期阶段将对毛利率造成约 2% 至 3% 的稀释效应,并随产能持续扩充与海外厂区营收占比提升,后期阶段稀释幅度可能进一步扩大至 3% 至 4%,相关展望是否出现调整将成为市场关注重点。此外,日本与德国厂亦投入量产,投资人将聚焦各海外厂区的实际投产节奏、产能爬坡速度,以及其对整体毛利率结构所带来的中长期影响。

重点四:NVIDIA H200 追单与 Intel, Samsung 先进制程追赶相关议题

市场先前传出中国科技公司向 NVIDIA 下单逾 200 万颗 H200 AI 晶片,需求显著高于现有库存水位,外界关注 NVIDIA 是否已就相关需求与台积电协商扩增产能。另一方面,亦有消息指出 Qualcomm 与 Samsung 展开 2nm 制程合作,加上 Intel 18A 制程产品近期对外亮相,使市场焦点转向先进制程竞逐态势,并关注管理层对 Intel 与 Samsung 加速追赶先进制程进度,以及未来产业发展的整体看法。

Blog Post Ad

其他标签